| Dữ liệu biên mục | Nguyễn, Hữu Chí
Vật lý Plasma : Khí ion hóa/ Nguyễn Hữu Chí. - Tái bản lần thứ 2. - TP.HCM : Đại học Quốc gia TP.HCM, 1998. - 253tr. ; 20,5cm.
1. Vật lý Plasma.2. Vật lý hạt nhân.3. Khí ion hóa.
Số định danh : 539.7 NG527
|
| | | Dữ liệu xếp giá | - DHTDM: Lưu kho [ Rỗi ] Sơ đồ
- DC: DH10006258, DH10006260-2, DH10006266
- DHTDM: [ Rỗi ] Sơ đồ
- DH10006257, DH10006259, DH10006263-5
- Số bản: 10
- Số bản lưu: 5
- Số bản rỗi: 10 (kể cả các bản được giữ chỗ)
- Số bản được giữ chỗ: 0
|
|
|
| | Các mục từ truy cập | |
|
